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清田大介 長時間露光ポートレイトセミナー

Description

実施概要


  • 開催日時:2019年 2月9日(土)13:00~16:00
  • 開催地:清田写真スタジオ(東京都・府中市)
  • 参加費:5,000円
  • 定員:最大10名 (最小催行人数 5名)
    ※申込み先着順、定員になり次第締め切らせていただきます
  • 講師:清田大介

イベントの詳細は、告知ページをご覧ください。
Sat Feb 9, 2019
1:00 PM - 4:00 PM JST
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Venue
Tickets
参加費 SOLD OUT ¥5,000
Venue Address
府中市府中町2丁目10−12 Japan
Organizer
NiSi Filters Japan
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